Characterization of Patterned Oxide Buried in Bonded Silicon-on-Insulat or Wafers by Near-Infrared Scattering Topography and Microscopy
Characterization of Patterned Oxide Buried in Bonded Silicon-on-Insulat or Wafers by Near-Infrared Scattering Topography and Microscopy
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通过近红外散射形貌和显微镜表征埋在键合绝缘体上硅或晶圆中的图案化氧化物
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mizuho Morita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Xing Wu;Junichi Uchikoshi;Takaaki Hirokane;Ryuta Yamada;Kenta Arima;Mizuho Morita
