K. Hirose, H. Nohira, T. Koike, T. Aizaki and T. Hattori: "Initial stage of SiO_2 valence band formation" Applield Surface Science. 123-124. 542-545 (1998)
K. Hirose, H. Nohira, T. Koike, T. Aizaki and T. Hattori: "Initial stage of SiO_2 valence band formation" Applield Surface Science. 123-124. 542-545 (1998)
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K. Hirose、H. Nohira、T. Koike、T. Aizaki 和 T. Hattori：“SiO_2 价带形成的初始阶段”应用表面科学。
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