Discrete Sources Method for analysis of a light scattering by an air bubble on resist for immersion lithography
Discrete Sources Method for analysis of a light scattering by an air bubble on resist for immersion lithography
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用于分析浸没光刻抗蚀剂上气泡的光散射的离散源方法
DOI：
10.1016/j.jqsrt.2005.11.065
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发表时间：
2006
影响因子：
2.3
通讯作者：
Y. Eremin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Eremina;T. Wriedt;Y. Eremin
