Tuning of electrical and structural properties of indium oxide films grown by metal organic chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/j.tsf.2006.11.079
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发表时间：
2007-06
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Ch. Y. Wang;V. Cimalla;H. Romanus;T. Kups;M. Niebelschütz;O. Ambacher
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ch. Y. Wang;V. Cimalla;H. Romanus;T. Kups;M. Niebelschütz;O. Ambacher
