Inductively coupled plasma etching of a Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 thin film in a HBr/Ar plasma
Inductively coupled plasma etching of a Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 thin film in a HBr/Ar plasma
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HBr/Ar 等离子体中 Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 薄膜的感应耦合等离子体蚀刻
DOI：
10.1016/s0167-9317(02)00550-6
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hye In Kim
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Chung;Y. Byun;Hye In Kim
