プラズマ援用化学気相堆積法を用いて堆積したSiナノドットへの電子注入
プラズマ援用化学気相堆積法を用いて堆積したSiナノドットへの電子注入
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使用等离子体辅助化学气相沉积将电子注入沉积的硅纳米点
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
林司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
市川和典;猪飼順子;彦野太樹夫;矢野裕司;畑山智亮;冬木隆;林司
