Postoxidation annealing treatments to improve Si/ultrathin SiO_2, characteristics formed by nitric acid oxidation
Postoxidation annealing treatments to improve Si/ultrathin SiO_2, characteristics formed by nitric acid oxidation
复制标题
氧化后退火处理改善Si/超薄SiO_2、硝酸氧化形成的特性
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Kobayashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Asuha;L.Yueh-Ling;0.Maida;M.Takahashi;H.Kobayashi
