Si emission into the oxide layer during oxidation of silicon carbide
Si emission into the oxide layer during oxidation of silicon carbide
复制标题
碳化硅氧化过程中 Si 发射到氧化物层中
DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.553
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Hiroyuki Yaguchi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yasuto Hijikata;Yurie Akasaka;Shuhei Yagi;and Hiroyuki Yaguchi
