K.Sato,M.Shikida,et al.: "Characterization of Anisotropic Etching Properties of Single Crystal Silicon:The Effects of KOH Concentration on the Etching Profiles" Proc.of IEEE MEMS'97. 406-411 (1997)
K.Sato,M.Shikida,et al.: "Characterization of Anisotropic Etching Properties of Single Crystal Silicon:The Effects of KOH Concentration on the Etching Profiles" Proc.of IEEE MEMS'97. 406-411 (1997)
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K.Sato、M.Shikida 等人：“单晶硅各向异性蚀刻特性的表征：KOH 浓度对蚀刻轮廓的影响”Proc.of IEEE MEMS97。
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