The 4X Source
The 4X Source
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4X 源
DOI：
10.1109/tns.1985.4333727
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发表时间：
1985
影响因子：
1.8
通讯作者：
Joseph D. Sherman
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Vernon Smith;P. Allison;Joseph D. Sherman
我们的潘宁表面等离子体源（SPS）放电室在两个维度上扩大了4倍。迄今为止，已经研究了三种脉冲放电模式：两种具有噪声电弧（H电流波动为<$20%），一种具有静态电弧（H电流波动为<$1%）。较低的电弧磁场和较高的H2气流允许从噪声模式切换到静态模式。噪声模式产生高达120 mA的29 keV H束;对于29 keV的110 mA，二维归一化均方根发射度为0.017 x 0.018 ²·cm·mrad。静态模式产生75 mA的29 keV H束;对于24 keV的67 mA，发射度为0.011 x 0.012 <$·cm·mrad。
Our Penning surface-plasma source (SPS) discharge chamber was enlarged 4X in two dimensions. To date, three pulsed discharge modes have been studied: two with noisy arc (¿20% H- current fluctuations) and one with quiescent arc (¿1% H- current fluctuations). Lower arc magnetic field and higher H2 gas flow allow switching from the noisy to the quiescent mode. The noisy modes yield up to 120 mA of 29-keV H- beam; for 110 mA at 29 keV, the two-dimensional normalized rms emittance is 0.017 x 0.018 ¿·cm·mrad. The quiescent mode yields 75 mA of 29-keV H- beam; for 67 mA at 24 keV, the emittance is 0.011 x 0.012 ¿·cm·mrad.