Kiyoshi Ishii: "A gas-flow-sputtering apparatus with two sources for the formation of multilayer oxide superconducting films." J.Vac.Sci.Technol.A,.
Kiyoshi Ishii: "A gas-flow-sputtering apparatus with two sources for the formation of multilayer oxide superconducting films." J.Vac.Sci.Technol.A,.
复制标题
Kiyoshi Ishii：“一种具有两个源的气流溅射装置，用于形成多层氧化物超导薄膜。”
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
