L.Zhao, N.H.Luu, D.Wang, Y.Sugimoto, K.Ikeda, H.Nakashima: "Low-Temperature Growth of Thin Silicon Nitride Film by Electron Cyclotron Resonance Plasma Irradiation"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.43, No.1A/B. L47-L49 (2004)
L.Zhao, N.H.Luu, D.Wang, Y.Sugimoto, K.Ikeda, H.Nakashima: "Low-Temperature Growth of Thin Silicon Nitride Film by Electron Cyclotron Resonance Plasma Irradiation"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.43, No.1A/B. L47-L49 (2004)
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L.Zhao、N.H.Luu、D.Wang、Y.Sugimoto、K.Ikeda、H.Nakashima：“通过电子回旋共振等离子体辐射低温生长氮化硅薄膜”日本应用物理学杂志。
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