原子ビーム制御と原理リソグラフィー

原子ビーム制御と原理リソグラフィー
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原子束控制与光刻原理

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
レーザー研究(The Review of Laser Engineering) 第32巻7号
影响因子:
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通讯作者:
大向隆三
大向隆三
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Takeaki Araki;Hajime Tanaka;M.Hyodo;M.Hyodo;R.Ohmukai;K.Nakayama;R.Ohmukai;大向隆三

文献摘要

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