Production Yield of Endohedral ^<133>Xe-Fullerene at Incident Energy of 5keV by Ion Implantation
Production Yield of Endohedral ^<133>Xe-Fullerene at Incident Energy of 5keV by Ion Implantation
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通过离子注入在5keV入射能量下内嵌^<133>Xe-富勒烯的产率
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. S. Ishioka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Watanabe;N. S. Ishioka
