M.Ishii, S. Komuro, T.Morikawa, Y.Aoyagi, T.Ishikawa, and T.Ueki: "XANES analysis of optically activation process of Er in Si : Er_2O_3 thin film : electronic and structural modifications around Er"Japanese Journal of Applied Physics. 38・suppl, 38-1. 191-
M.Ishii, S. Komuro, T.Morikawa, Y.Aoyagi, T.Ishikawa, and T.Ueki: "XANES analysis of optically activation process of Er in Si : Er_2O_3 thin film : electronic and structural modifications around Er"Japanese Journal of Applied Physics. 38・suppl, 38-1. 191-
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M.Ishii、S. Komuro、T.Morikawa、Y.Aoyagi、T.Ishikawa 和 T.Ueki：“XANES 分析 Si 中 Er 的光学激活过程：Er_2O_3 薄膜：Er 周围的电子和结构修饰”日本期刊应用物理学。38·增补，38-1。
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