Influence of Fin Height on Poly-Si/PVD-TiN Stacked Gate FinFET Performance
Influence of Fin Height on Poly-Si/PVD-TiN Stacked Gate FinFET Performance
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鳍片高度对多晶硅/PVD-TiN 堆叠栅 FinFET 性能的影响
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tetsuro Hayashida;et al
