H.Yaguchi,et al.: "Characterization of SiGe strained heterostructures grown by molecular beam epitaxy using a Si effusion cell" Thin Solid Films. 321. 241-244 (1998)
H.Yaguchi,et al.: "Characterization of SiGe strained heterostructures grown by molecular beam epitaxy using a Si effusion cell" Thin Solid Films. 321. 241-244 (1998)
复制标题
H.Yaguchi 等人:“使用硅渗流池通过分子束外延生长的 SiGe 应变异质结构的表征”固体薄膜。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: