川崎 三津夫他: "The effect ion energy on the formation of the silicon carbide interface of hydrogenated amorphous carbon films grown on silicon by plasma assisted chemical vapor deposition" Surface Science. 260. 85-96 (1992)
川崎 三津夫他: "The effect ion energy on the formation of the silicon carbide interface of hydrogenated amorphous carbon films grown on silicon by plasma assisted chemical vapor deposition" Surface Science. 260. 85-96 (1992)
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Mitsuo Kawasaki 等人：“离子能量对通过等离子体辅助化学气相沉积在硅上生长的氢化非晶碳薄膜的碳化硅界面形成的影响”表面科学 260. 85-96 (1992)。
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