J.Choi,K.Minami,M.Esashi: "Application of deep reactive ion etching for silicon angular rate sensor" Microsystem Technologies. 2. 186-190 (1996)
J.Choi,K.Minami,M.Esashi: "Application of deep reactive ion etching for silicon angular rate sensor" Microsystem Technologies. 2. 186-190 (1996)
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J.Choi、K.Minami、M.Esashi：“深度反应离子蚀刻在硅角速率传感器中的应用”Microsystem Technologies。
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