不揮発メモリ応用へ向けたGaN/AlN共鳴トンネルダイオードの双安定性の評価
不揮発メモリ応用へ向けたGaN/AlN共鳴トンネルダイオードの双安定性の評価
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用于非易失性存储器应用的 GaN/AlN 谐振隧道二极管的双稳态评估
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
清水三聡
中科院分区：
文献类型：
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作者：
永瀬成範;高橋言緒;清水三聡
