Tungsten deposition by dual-frequency inductively coupled plasma-assisted CVD
Tungsten deposition by dual-frequency inductively coupled plasma-assisted CVD
复制标题
双频电感耦合等离子体辅助 CVD 沉积钨
DOI：
10.1016/s0257-8972(99)00223-6
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发表时间：
1999
影响因子：
5.4
通讯作者：
F. Rossi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
P. Colpo;T. Meziani;N. Gibson;G. Ceccone;F. Rossi
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
作者：
T.Nozokido(莅戸立夫);T.Nose (能勢敏明);N.Horiuchi(堀内典明);T.Nose;T.Nozokido;N.Horiuchi;T.Nose(能勢敏明);T.Nose(能勢敏明);T.Nozokido(莅戸立夫);N.Horiuchi(堀内典明);T.Nozokido(莅戸立夫);T.Nose (能勢敏明);T.Nozokido(莅戸立夫);N.Horiuchi;T.Nozokido;T.Nose;T.Nozokido;T.Nose(能勢敏明);西澤潤一;J.Nishizawa
通讯作者：
J.Nishizawa