A Study of Resolution an Overlay Accuracy of a Simplified Photo Lithography Process for EE Education Use
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复制标题
电子电气教育用简化光刻工艺的分辨率和叠加精度研究
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Horibe and S.Nagaoka,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
(4)T.Shimizu;M.Yamamoto;R.Johnston;K.Matsuda;H. Horibe and S.Nagaoka,
