Nanocrystalline silicon embedded in silicon suboxide synthesized in high-density inductively coupled plasma
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DOI：
10.1088/0022-3727/48/44/445302
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Xiang Y.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhou H. P.; Xu S.; Xu M.; Xiao S. Q.; Xiang Y.
