H. Yamamoto and J. Shibata: "Disposal of Waste Fluoride and Chloride Gases in the Manufacturing Process of Semiconductors"proceedings of Second International Conference on Material Processing for Properties (PMP2000). Vol.1. 685-688 (2000)
H. Yamamoto and J. Shibata: "Disposal of Waste Fluoride and Chloride Gases in the Manufacturing Process of Semiconductors"proceedings of Second International Conference on Material Processing for Properties (PMP2000). Vol.1. 685-688 (2000)
复制标题
H. Yamamoto 和 J. Shibata：“半导体制造过程中废弃氟化物和氯化物气体的处理”第二届国际材料加工性能会议 (PMP2000) 论文集。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
