High Temperature NO Annealing of Deposited SiO_2 and SiON Films on N-tybe 4H-SiC
High Temperature NO Annealing of Deposited SiO_2 and SiON Films on N-tybe 4H-SiC
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N型4H-SiC上沉积SiO_2和SiON薄膜的高温NO退火
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Yano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Yano
