米国の秘密特許制度について
米国の秘密特許制度について
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关于美国秘密专利制度
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
日本国際知的財産保護協会
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清水展;SHIMIZU Hiromu;清水展;清水展;清水展;Hiromu SHIMIZU;玉井克哉;Hiromu SHIMIZU;Shimizu Hiromu;清水展;玉井克哉;Hiromu SHIMIZU;情報法制学会;速水洋子（編）;一般社団法人 日本知的財産協会;日本国際知的財産保護協会
