ミストデポジション法で作製した (CH3NH3)3Bi2I9 厚膜による X 線検出
ミストデポジション法で作製した (CH3NH3)3Bi2I9 厚膜による X 線検出
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使用雾沉积法制备的(CH3NH3)3Bi2I9厚膜进行X射线检测
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平藤哲司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
川上未央子;春田優貴;和田愼史;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
