Mechanism of CoSi2/Si epitaxy and fabrication process of double heteroepitaxial Si/CoSi2/Si
Mechanism of CoSi2/Si epitaxy and fabrication process of double heteroepitaxial Si/CoSi2/Si
复制标题
CoSi2/Si外延机理及双异质外延Si/CoSi2/Si制备工艺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Mizukami and S. Noda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Tsuji;M. Mizukami and S. Noda
