Characterization of Au-Doped Ta2O5 Thin Films Prepared Using a Simple Co-Sputtering Method
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使用简单共溅射方法制备的 Au 掺杂 Ta2O5 薄膜的表征
DOI：
10.14923/transelej.2020pjf0001
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤開，橋本祐也，三浦健太，野口克也，加田渉，花泉修
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Subaru Sawayanagi;Hideomi Yamashita;Yuki Nozawa;Ryosuke Takenaka;Yosuke Miki;Kosuke Morishima;Hiroyuki Ueno;Takeshi Ohta;Atsuto Katano.;大宝和博;伊藤開，橋本祐也，三浦健太，野口克也，加田渉，花泉修
