T.Toyama: "P-and N-type Microcrystalline SiC Fabricated by rf Plasma CVD with Ethane Gas"Mater.Res.Soc.Symp.Proc.. 762. 583-588 (2003)
T.Toyama: "P-and N-type Microcrystalline SiC Fabricated by rf Plasma CVD with Ethane Gas"Mater.Res.Soc.Symp.Proc.. 762. 583-588 (2003)
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T.Toyama：“用乙烷气体通过射频等离子体 CVD 制备 P 型和 N 型微晶 SiC”Mater.Res.Soc.Symp.Proc.. 762. 583-588 (2003)
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