T.Fujii, T.Shimizu, Y.Horiike and H.Shindo: "Silicon Trench Oxidation by Employing Oxygen Negative Ion"Proc. 18th Symposium on Plasama Processing, Kyoto. 443-444 (2001)
T.Fujii, T.Shimizu, Y.Horiike and H.Shindo: "Silicon Trench Oxidation by Employing Oxygen Negative Ion"Proc. 18th Symposium on Plasama Processing, Kyoto. 443-444 (2001)
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T.Fujii、T.Shimizu、Y.Horiike 和 H.Shindo：“利用氧负离子进行硅沟槽氧化”Proc。
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