Two-plane painting injection scheme for BRing of HIAF
Two-plane painting injection scheme for BRing of HIAF
复制标题
HIAF BRing 两平面喷漆注入方案
DOI：
10.1007/s41365-017-0260-5
复制
发表时间：
2017-07
影响因子：
2.8
通讯作者：
Shang Peng
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Qu Guo-Feng;Chai Wei-Ping;Xia Jia-Wen;Yang Jian-Cheng;Du Heng;Li Zhong-Shan;Ge Wen-Wen;Zheng Wen-Heng;Shang Peng
高强度重离子加速器设施（HIAF）正在近代物理研究所（IMP）的设计中，将为核物理、原子质量测量研究和其他应用提供强离子束。作为 HIAF 的主环，BRing 将光束聚集到高强度并将其加速到高能量。为了实现高达(U)的高强度，BRing的注入增益必须高达88。然而，电子冷却系统支持的多次多圈注入需要很长的时间，在强空间电荷效应下会导致大量的束流损失。因此，提出了一种两平面绘画注入方案用于 BRing 中的光束累积。该方案使用倾斜的注入隔膜以及水平和垂直凸块磁体将光束同时绘制到水平和垂直相空间中。在本文中，对两平面绘画注射参数进行了优化，并使用目标环束注射和跟踪（ORBIT）代码模拟了最终的注射过程。注入增益高达110.3，损失率为0，满足BRing要求。
The high-intensity heavy-ion accelerator facility (HIAF) is under design at the Institute of Modern Physics (IMP) and will provide an intense ion beam for nuclear physics, atomic mass measurement research, and other applications. As the main ring of HIAF, the BRing accumulates beams to high intensity and accelerates them to high energy. To achieve high intensities up to(U), the injection gain of the BRing must be as high as 88. However, multiple multiturn injection supported by the electron cooling system takes a long time, causing substantial beam loss under a strong space charge effect. Hence, a two-plane painting injection scheme is proposed for beam accumulation in the BRing. This scheme uses a tilted injection septum and horizontal and vertical bump magnets to paint the beam into horizontal and vertical phase space simultaneously. In this paper, the two-plane painting injection parameters are optimized, and the resulting injection process is simulated using the Objective Ring Beam Injection and Tracking (ORBIT) code. An injection gain of up to 110.3 with a loss rate ofis achieved, meeting the requirements of BRing.
登录
查看更多内容
DOI：
10.1142/3904
发表时间：
1999-01
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
D. Coley
通讯作者：
D. Coley
DOI：
10.1016/s0168-9002(98)00512-9
发表时间：
1998-09
影响因子：
1.4
作者：
I. Hofmann
通讯作者：
I. Hofmann
DOI：
10.1016/j.nimb.2013.08.046
发表时间：
2013-12
影响因子：
1.3
作者：
Jian-Cheng Yang;J. Xia;G. Xiao;H. Xu;Hongyun Zhao;X. Zhou;X. Ma;Yuan He;Lizhen Ma;D. Ga
通讯作者：
Jian-Cheng Yang;J. Xia;G. Xiao;H. Xu;Hongyun Zhao;X. Zhou;X. Ma;Yuan He;Lizhen Ma;D. Ga
DOI：
10.1201/9781439822050
发表时间：
1966
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
R. Hockney;J. Eastwood
通讯作者：
R. Hockney;J. Eastwood
影响因子：
64.8
作者：
R. C. Barrett
通讯作者：
R. C. Barrett