Dependence of Target-Substrate Distance on Crystallographic and Optical Properties of WO_3 Films Prepared by Reactive RF Magnetron Sputtering
Dependence of Target-Substrate Distance on Crystallographic and Optical Properties of WO_3 Films Prepared by Reactive RF Magnetron Sputtering
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反应射频磁控溅射制备WO_3薄膜靶基距离对晶体学和光学性能的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.Fujishima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Takahashi;K.Prabakar;T.Nakashima;Y.Kubota;A.Fujishima
影响因子：
2.1
作者：
H. Shinguu;M. Bhuiyan;T. Ikegami;K. Ebihara
通讯作者：
H. Shinguu;M. Bhuiyan;T. Ikegami;K. Ebihara
影响因子：
64.8
作者：
J. I. Jones
通讯作者：
J. I. Jones
化学吸附多原子分子的振动分析：Cu(100) 上的甲氧基
DOI：
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
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作者：
K. Mudalige;A. Warren;M. Trenary
通讯作者：
M. Trenary