Effect of the target shuttering on the characteristics of the Ta–Si–N thin films by reactive magnetron co-sputtering
Effect of the target shuttering on the characteristics of the Ta–Si–N thin films by reactive magnetron co-sputtering
复制标题
反应磁控共溅射靶模板对Ta-Si-N薄膜特性的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Hung
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Chung;T. S. Chen;A. Nautiyal;N. Chang;S. Hung
