Growth of target race track profile during magnetron sputtering
Growth of target race track profile during magnetron sputtering
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磁控溅射过程中靶材跑道轮廓的生长
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shigeru Baba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeo Nakano;Yudai Saitou;Mariko Ueda;Noriaki Itamura;Shigeru Baba
