六方晶窒化ホウ素薄膜の減圧CVDにおける原料ガス導入タイミング
六方晶窒化ホウ素薄膜の減圧CVDにおける原料ガス導入タイミング
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六方氮化硼薄膜低压CVD原料气体导入时机
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
原 和彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉岡 陸;田中 佑樹;渡邊 泰良;増田 克仁;大石 泰己;増田 希良里;小南 裕子;原 和彦
