Characterization for Molecular Structure of Novolac Resin Using Bisphenol B: Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol unit

Characterization for Molecular Structure of Novolac Resin Using Bisphenol B: Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol unit
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使用双酚 B 表征酚醛树脂的分子结构:开发具有双酚单元的柔性光刻胶材料

DOI:
10.11364/networkedpolymer.44.2_68
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发表时间:
2023
期刊:
Journal of Networkpolymer,Japan
影响因子:
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通讯作者:
西村 利康
西村 利康
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
山﨑 博人;西村 利康

文献摘要

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フェノール (PhOH) 成分としてメチルプロピリデン基をもつビスフェノール B (BisB) を, 架橋剤としてグルタルアルデヒド (Glu), あるいはホルムアルデヒド (Form) からなる, BisB/Glu および BisB/Form ノボラック樹脂は, フォトレジスト用樹脂として, 柔軟性と描画能のどちらも高水準で満足する特性をもつ. 一方, BisB と架橋剤の仕込モル比の増減にかかわらず, 両ノボラック樹脂の M w 変化は乏しいながらも, 架橋剤の仕込モル比の増加に伴いアルカリ水溶解速度 (DR) は低下した. これは架橋剤の仕込モル比の高い反応系では, BisB 成分のメチルプロピリデン基の立体障害により縮合反応が進行し難くなり, アルキル水酸基割合が分子内に増加する. このため, M w が大きく変化しないにもかかわらず, DR 低下が生じたことを, MALDI TOF-MS 測定による構造解析より解明した.