電子ビーム誘起蒸着法によるシリコン基板への酸化ハフニウム堆積
電子ビーム誘起蒸着法によるシリコン基板への酸化ハフニウム堆積
复制标题
通过电子束诱导蒸发在硅衬底上沉积氧化铪
DOI：
--
复制
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
小林俊介
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
J. Chen;T. Maki;K. Nagashima;K. Murata;G. Sazaki;清水 亮太;小林俊介
