Tohru HARA: "Interfacial Reaction of Ta and Si rich Tantalum Silicides with Si Substrate" J of Applied Physics. 65. (1990)
Tohru HARA: "Interfacial Reaction of Ta and Si rich Tantalum Silicides with Si Substrate" J of Applied Physics. 65. (1990)
复制标题
Tohru HARA:“富含 Ta 和 Si 的钽硅化物与 Si 衬底的界面反应”《应用物理学杂志》。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: