Si表面の電子定在波

Si表面の電子定在波
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硅表面电子驻波

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
日本学術振興会なのプローブテクノロジー第167委員会第36回研究会報告
影响因子:
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通讯作者:
平山 博之
平山 博之
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H.Hirayama;M.Watai;H.Hirayama;平山 博之

文献摘要

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