Toward quantum bit generation using single highly charged ion implantation
Toward quantum bit generation using single highly charged ion implantation
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使用单次高电荷离子注入实现量子位生成
DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
M. Sakurai
中科院分区:
文献类型:
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作者:
M. Sakurai