NAOTAKE TOYAMA: "VARIATION IN THE EFFECTIVE RICHARDSON CONSTANT OF A METAL-SILICON CONTACT DUE TO METAL-FILM THICKNESS" JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 59. (1988)

NAOTAKE TOYAMA: "VARIATION IN THE EFFECTIVE RICHARDSON CONSTANT OF A METAL-SILICON CONTACT DUE TO METAL-FILM THICKNESS" JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 59. (1988)
复制标题

NAOTAKE TOYAMA:“金属-硅接触的有效理查森常数因金属-膜厚度而变化”应用物理学杂志。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献