エピタキシャル圧電薄膜のSi基板上への成膜と高性能MEMSの創出
エピタキシャル圧電薄膜のSi基板上への成膜と高性能MEMSの創出
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在硅衬底上沉积外延压电薄膜并创建高性能MEMS
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉田 慎哉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Qi Xuanmeng;Yoshida Shinya;Tanaka Shuji;吉田 慎哉;吉田 慎哉
