キラルケイ素分子の不斉合成とその応用
キラルケイ素分子の不斉合成とその応用
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手性硅分子的不对称合成及其应用
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
井川和宣
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Kuroo;Kazunobu Igawa;Katsuhiko Tomooka;井川和宣，黒尾明弘，吉廣大佑，安部雄介，友岡克彦;黒尾明弘，井川和宣，友岡克彦;野崎素良，高田純子，重松和樹，宮坂祥司，井川和宣，友岡克彦;Kazunobu Igawa;井川和宣
