フェムト秒レーザー支援アニールによるNi/SiC界面の低温シリサイド化
フェムト秒レーザー支援アニールによるNi/SiC界面の低温シリサイド化
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飞秒激光辅助退火低温硅化Ni/SiC界面
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
富田 卓朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
出来 真斗;近藤 健太;柳田 栄造;板東 洋太;森本 和樹;岡田 達也;富田 卓朗
