Fabrication of High-Aspect-Ratio Micropatterns in Soluble Block-Copolymer Polyimides by an UV-assisted Thermal Imprint Process
Fabrication of High-Aspect-Ratio Micropatterns in Soluble Block-Copolymer Polyimides by an UV-assisted Thermal Imprint Process
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通过紫外线辅助热压印工艺在可溶性嵌段共聚物聚酰亚胺中制造高纵横比微图案
DOI：
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发表时间：
2019
影响因子：
1.6
通讯作者：
Katsuhiro Hayashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sung-Won Youn;Kenta Suzuki;Takagi Hideki;Hiroshi Hiroshima;Yoshinori Kinoshita;Katsuhiro Hayashi
