等离子体技术沉积SiCN薄膜中杂质O的来源、化合状态及其对薄膜结构和性能的影响
等离子体技术沉积SiCN薄膜中杂质O的来源、化合状态及其对薄膜结构和性能的影响
复制标题
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
徐军
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
张明明;陆文琪;丁万昱;赵艳艳;徐军
