N.Yoshikawa, T.Endo, S.Taniguchi, S.Awaji, K.Watanabe: "Influence of Magnetic Field Imposition on CVD Process for Fabrication of Fe Film"Proc.Of International Symposium on Innovative Materials Processing by Controlling Chemical Reaction Field(IMP2002). 9-
N.Yoshikawa, T.Endo, S.Taniguchi, S.Awaji, K.Watanabe: "Influence of Magnetic Field Imposition on CVD Process for Fabrication of Fe Film"Proc.Of International Symposium on Innovative Materials Processing by Controlling Chemical Reaction Field(IMP2002). 9-
复制标题
N.Yoshikawa、T.Endo、S.Taniguchi、S.Awaji、K.Watanabe：“磁场强加对 CVD 工艺制备 Fe 薄膜的影响”Proc.Of International Symposium on Innovative MaterialsProcessing by Control Chemical Reaction Field（
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
