Electrochemical properties of Boron-doped diamond deposited by microwave plasma cvd method
Electrochemical properties of Boron-doped diamond deposited by microwave plasma cvd method
复制标题
微波等离子体CVD法沉积掺硼金刚石的电化学性能
DOI：
--
复制
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
R. Murakami
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
君塚肇;森英喜;尾方成信;R. Murakami
