M.Nishida: "In-situ characterization of Si surface oxidation by high-sensitivity infrared reflection spectroscopic method in vacuum chamber" Extended Abstracts of the 1992 International Comference on Solid State Devices and Materials. 114-116 (1992)
M.Nishida: "In-situ characterization of Si surface oxidation by high-sensitivity infrared reflection spectroscopic method in vacuum chamber" Extended Abstracts of the 1992 International Comference on Solid State Devices and Materials. 114-116 (1992)
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M.Nishida：“在真空室中通过高灵敏度红外反射光谱法对 Si 表面氧化进行原位表征”1992 年国际固态器件和材料会议的扩展摘要。
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